• 冠军国际


  • 英文版 中文版

    Employee learning 员工学习当前位置: 首页> 新闻动态> 员工学习

    • 有机硅行业—员工学习小知识(一)
    • 发布时间 : 2018-08-15 点击次数:6402 
    •  有机硅产业链概况

      多晶硅产业现状

      太阳能电池市场现状

      煤炭石油是两大不可再生能源。上个世纪发生的两次石油危机,一方面是对世界经济的极大冲击 ,但同时也是一次机遇,再加上保护环境,开发绿色能源、替代能源,已被人们预测为改变我们未来10年生活的十大新科技之一。在未来10年内 ,风力、阳光、地热等替代能源可望供应全世界所需能源的30%。

       由于太阳能发电具有充分的清洁性、绝对的安全性、资源的相对广泛性和充足性 、长寿性以及免维护性等其它常规能源所不具备的优点,所以光伏能源被认为是二十一世纪最重要的新能源 。

      硅及其硅的氯化物的简介

      一 、硅的简介

      硅,1823年发现,为世界上第二最丰富的元素——占地壳四分之一 ,砂石中含有大量的SiO2,也是玻璃和水泥的主要原料,纯硅则用在电子元件上 ,譬如启动人造卫星一切仪器的太阳能电池,便用得上它 。

      硅 ,由于它的一些良好性能和丰富的资源 ,自一九五三年作为整流二极管元件问世以来 ,随着硅纯度的不断提高,目前已发展成为电子工业及太阳能产业中应用最广泛的材料。

      多晶硅的最终用途主要是用于生产集成电路、分立器件和太阳能电池片的原料 。

       1.硅的物理性质

      硅有晶态和无定形两种同素异形体,晶态硅又分为单晶硅和多晶硅,它们均具有金刚石晶格 ,晶体硬而脆,具有金属光泽,能导电 ,但导电率不及金属,具有半导体性质,晶态硅的熔点1416±4℃,沸点3145℃,密度2.33g/cm3莫氏硬度为7。

      单晶硅和多晶硅的区别是,当熔融的单质硅凝固同时,硅原子以金刚石晶格排列为单一晶核,晶面取向相同的晶粒,则形成单晶硅,如果当这些晶核成长成晶面取向不同的晶粒,则形成多晶硅,多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。

      一般的半导体器件要求硅的纯度六个9以上,大规模集成电路的要求更高 ,硅的纯度必须达到九个9。

      2.硅的化学性质

      硅在常温下不活泼,其主要的化学性质如下:

      (1)与非金属作用

      常温下Si只能与F2反应,在F2中瞬间燃烧,生成SiF4

      Si+2F2=SiF4

      加热时,能与其他卤素反应生成氯化硅,与氧气生成SIO2.

      Si+2X2=SiX4(X=Cl ,Br,I)

      Si+O2=SiO2

      在高温下,硅与碳、氮、硫等非金属单质化合,分别生成碳化硅SiC,氮化硅Si3N4,和硫化硅SiS2等。

      (2)与酸作用

      硅在含氧酸中被钝化  ,但与氢氟酸及其混合酸反应,生成SiF4或H2SiF6(偏硅酸)。

      Si+4HF=SiF4+2H2

      Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O

      (3)与碱作用

      无定形硅能与碱猛烈反应生成可溶性硅酸盐 ,并放出氢气 。

      Si+2NaOH+H2O=Na2SIO3+2H2

      (4)与金属作用

      硅还能与钙、镁、铜、铁、铂 、铋等化合 ,生成相应的金属硅化物。

      二、硅的氯化物

      硅的氯化物主要介绍SiCl4、SiHCl3等,它们和碳的卤化物CF4和CCl4相似,都是四面体的非极性分子,共价化合物 ,溶沸点都比较低,挥发性也比较大 ,易于用蒸馏的方法提纯它们 。

      在常温下,纯净的SiCl4 、SiHCl3是无色透明的易挥发液体 。

      1.氯硅烷的物理性质

      在常温下,纯净的SiCl4、SiHCl3是无色透明挥发性的液体,SiHCl3比SiCl4具有更强的刺鼻气味 。

      SiCl4:沸点为57.6℃ ,分子量170,液体密度1.47 g/cm3

      SiHCl3 :沸点为31.8℃,分子量135.45,液体密度1.32 g/cm3

      2.化学性质

      a.易水解、潮解,在空气中强烈发烟

      易水解、潮解:

      SiCl4+(n+2)H2O→SiO2·nH2O+4HCl

      SiHCl3+nH2O→SiO2·nH2O+3HCl

      b.易挥发 、易气化、易制备、易还原 。

      c.SiHCl3易着火 ,发火点28℃,燃烧时产生HCl和Cl2  ,着火点为220℃ 。

      d.对金属极为稳定 ,甚至对金属钠也不起反应。

      e.其蒸汽具有弱毒性 ,与无水醋酸及二氮乙烯的毒性程度极为相同。

      SiHCl3

      SiHCl3还原制备超纯硅的方法,在生产中被广泛的应用和迅速发展。因为他容易制得,解决了原料问题 ,容易还原成单质硅 ,沉积速度快 ,解决了产量问题,它的沸点低,化学结构的弱极性,使得容易提纯,产品质量高,利用它对金属的稳定性 ,在生产中常用不锈钢作为材质。但有较大的爆炸危险 ,因此在操作过程中应保持设备的干燥和管道的密封性,如果发现微量漏气,而不知道在什么地方时,可用浸有氨水的棉球接近待查处 ,若有浓厚白色烟雾就可以断定漏气的地方 。

      原理如下:

      2HCl+2NH4OH→2NH4Cl+H2O


       

    • 上一篇:重磅! 2019年1月1日起税务局全面征收社保
      下一篇:浅析硅氢加成中催化剂的选用
    • 返回新闻列表

  • XML地图